Standar produksi pengolahan wadah Tantalum

Kelas: R05200,R05400,Ta1,Ta10W,Ta2.5W

Standar: ASTM B708-05

Kemurnian: Lebih besar dari atau sama dengan 99,95

Kepadatan: Lebih besar dari atau sama dengan 16,6g/cm3

Titik leleh: 2996 derajat

Titik didih: 5425 derajat

Status pengiriman: status pemrosesan tempa

Kisaran ukuran: sesuai dengan pemrosesan gambar

Jenis pemrosesan: Penyelesaian

Toleransi: 0.02

Proses produksi: bahan baku - peleburan vakum berkas elektron - penempaan - pembubutan / penggilingan / pusat permesinan CNC
Penggunaan bahan Tantalum: Suku cadang mesin Tantalum memiliki serangkaian sifat yang sangat baik seperti titik leleh tinggi, tekanan uap rendah, kinerja pemesinan lonceng yang baik, stabilitas kimia yang tinggi, ketahanan yang tinggi terhadap korosi logam cair, dan konstanta dielektrik yang tinggi dari film oksida permukaan. Oleh karena itu, tantalum memiliki aplikasi penting dalam bidang elektronik, metalurgi, baja, industri kimia, karbida semen, energi atom, teknologi superkonduktor, elektronik otomotif, penelitian ilmiah, dan bidang teknologi tinggi lainnya.
Tantalum adalah suatu unsur logam, nomor atom 73, lambang kimia Ta, unsur yang sesuai dengan monomer logam abu-abu baja, mempunyai ketahanan terhadap korosi yang sangat tinggi, baik dalam kondisi dingin maupun panas, asam klorida, asam nitrat pekat dan " aqua regia" tidak reaktif. Tantalum terutama ditemukan di tantalite, bersimbiosis dengan niobium. Kekerasan Tantalum sedang dan ulet, dan dapat ditarik menjadi lembaran tipis jenis filamen halus. Koefisien muai panasnya sangat kecil. Tantalum memiliki sifat yang sangat kimia dan sangat tahan terhadap korosi. Dapat digunakan untuk pembuatan bejana evaporatif, dll., Dapat juga dibuat menjadi elektroda tabung elektronik, penyearah, kapasitor elektrolitik. Secara medis digunakan untuk membuat irisan tipis atau kabel halus untuk memperbaiki jaringan yang rusak. Meskipun tantalum sangat tahan terhadap korosi, ketahanan terhadap korosi disebabkan oleh terbentuknya lapisan pelindung tantalum pentoksida (TaO) yang stabil di permukaan.